Из спортивного интереса провел эксперимент по решению данной задачи имеющимися средствами.
1. Открываю пустой dmf.
2. Вставляю растры ориентированых снимков как 1:16, замеряю расстояние от края снимка, которое необходимо замаскировать.
Запоминаю его.
3. Вставляю теже снимки, но по ссылке. Дигитал будет ругаться обсуждаемой ошибкой, игнорируем, в конечном итоге получаем контура снимков. Тут же переводим их на какой-нибудь полигональный слой (например Default).
4. Скрываю слой Изображение (временно, чтобы не мешал).
5. Выделяем все контура снимков на полигональном слое и применяем к ним операцию Расширить/сжать панели Правка. В качестве параметра задаем запомненое ранее расстояние для маскировки с минусом. Получаем уменьшенные контура, тут же инвертируем пометку (клавиша INS), внешние (неуменьшеные) удаляем.
6. Включаем слой Изображение.
7. А теперь (по одному!) последовательно проходим по всем снимкам и применяем операцию Сложный полигон.
Все, готово.
Минусы:
- растры не по ссылке (может оказаться принципиально)
- много "тыканья", если растров надцать. (перепоручить кому-нибудь
)